Галиев арсенид: Разлика между версии

Направо към навигацията Направо към търсенето
42 байтове добавени ,  преди 9 години
+к.
м (Робот: Преместване на 24 междуезикови препратки към Уикиданни, в d:q422819.)
(+к.)
* Светоизлъчващи лазерни диоди;
* СВЧ-диоди.
 
 
== Физико-химични свойства ==
 
GaAs е тъмносиво вещество с виолетов оттенък. Относителната му плътност е 5,4 g/cm<sup>3</sup>. Топи се при 1238°С. Промяната в обема при преминаване от твърдо в течно агрегатно състояние достига 10%. GaAs е устойчив при обикновени условия, не се атакува от влагата и кислорода на въздуха. При висока температура има повишена активност, а в стопено състояние реагира с много вещества. Най-подходящ материал за работа с GaAs е кварцът<!-- за каква работа? -->. Състоянието на проводимата зона в галиевият арсенид с минимално значение на енергията съответства на нулев вълнов вектор. Фактът, че минимумът на проводимата зона и максимумът на енергията на електроните във валентната зона съответстват на едно значение на вълновия вектор, определя GaAs към полупроводниците с пряк преход между енергетичните зони. Такава структура осигурява възможност за излъчвателна рекомбинация на електроните и дупките и позволява на базата на GaAs да се изготвят оптоелектронни прибори. Собствената концентрация на електрони и дупки в GaAs е по-малка отколкото при Si, затова той може да има високи стойности на специфичното съпротивление, а по-голямата ширина на забранената зона дава възможност приборите на базата на GaAs да работят при по-високи температури от силициевите прибори.
 
== Примеси ==
 
Въвеждането на примеси в GaAs може да бъде извършено по различни начини. Един от първите разработени методи за легирането му е в процеса на епитаксиално израстване. Най-разпространеният метод за въвеждане на примеси в отделни области на структурите на ИС е йонната имплантация.
 
== Получаване ==
 
GaAs се получава чрез директен синтез между парите на арсена и течния галий. За тези цел се използва двузонна пещ, в която наред със синтеза се извършва и насочена кристализация. Реакцията се извършва при температура 1240-1250°С. Използва се запоена кварцова ампула, в която са поставени предварително очистените изходни вещества. Ако насочената кристализация се извършва при оптимални условия, в поликристалния слитък се наблюдават монокристални области. Монокристали от GaAs се изтеглят по метода на Чохралски. За да се предотврати термичната дисоциация на GaAs, при изтеглянето на монокристалите, стопилката се покрива с флюс. При избора на флюс се съблюдават следните изисквания: да бъде неутрален спрямо стопилката; да има ниска температура на топене; да бъде прозрачен в стопено състояние. Особено подходящ е двуборният триоксид. GaAs може да се пречисти и чрез безтигелно зонно топене.
 
[[Категория:Арсениди]]
[[Категория:Полупроводими вещества]]
[[Категория:Канцерогени]]

Навигация