CVD: Разлика между версии

Направо към навигацията Направо към търсенето
55 байтове добавени ,  преди 5 години
редакция без резюме
м (Робот: Преместване на 25 междуезикови препратки към Уикиданни, в d:q505668.)
Редакция без резюме
'''CVD''' ({{lang-en|Chemical Vapour Deposition}}) (химичното вакуумно отлагане) е [[технология]] за [[химия|химическо]] отлагане на материали в паро-газова среда при висока температура. Използва се за отлагане на [[диелектрик|диелектрични]] [[тънки слоеве]] и поликристален [[силиций]].
 
'''Приложение на диелектричните слоеве:'''

Навигация