CVD: Разлика между версии

от Уикипедия, свободната енциклопедия
Изтрито е съдържание Добавено е съдържание
Редакция без резюме
Редакция без резюме
Ред 18: Ред 18:


Най-голямо приложение намират слоевете от силициев нитрид Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> и [[силициев диоксид]] SiO<sub>2</sub>.
Най-голямо приложение намират слоевете от силициев нитрид Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> и [[силициев диоксид]] SiO<sub>2</sub>.

== Допълнителни материали ==

* {{cite book |last=Jaeger |first=Richard C. |title=Introduction to Microelectronic Fabrication |edition=2nd |year=2002 |publisher=Prentice Hall |location=Upper Saddle River |isbn=0-201-44494-1 |chapter=Film Deposition}}
* {{cite book |last=Smith |first=Donald |title=Thin-Film Deposition: Principles and Practice |year=1995 |publisher=MacGraw-Hill |isbn=0-07-058502-4}}
* {{cite book |last=Dobkin and Zuraw |title=Principles of Chemical Vapor Deposition |year=2003 |publisher=Kluwer |isbn=1-4020-1248-9}}
* K. Okada "Plasma-enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline diamond" [http://dx.doi.org/10.1016/j.stam.2007.08.008 Sci. Technol. Adv. Mater. 8 (2007) 624] ''free-download review''
* T. Liu, D. Raabe and S. Zaefferer "A 3D tomographic EBSD analysis of a CVD diamond thin film" [http://dx.doi.org/10.1088/1468-6996/9/3/035013 Sci. Technol. Adv. Mater. 9 (2008) 035013] ''free-download''
* Christoph Wild "CVD Diamond Properties and Useful Formula" [http://www.diamond-materials.com/downloads/cvd_diamond_booklet.pdf CVD Diamond Booklet (2008) PDF] ''free-download''
* Dennis W. Hess, [http://www.dtic.mil/cgi-bin/GetTRDoc?AD=ADA204709#page=74 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF DIELECTRIC AND METAL FILMS]''free-download'' from Electronic Materials and Processing: Proceedings of the First Electronic Materials and Processing Congress held in conjunction with the 1988 World Materials Congress Chicago, Illinois, USA, 24–30 September 1988, Edited by Prabjit Singh (Sponsored by the Electronic Materials and Processing Division of ASM INTERNATIONAL)


[[Категория:Технология]]
[[Категория:Технология]]

Версия от 08:55, 19 май 2017

CVD (Шаблон:Lang-en) (химичното вакуумно отлагане) е технология за химическо отлагане на материали в паро-газова среда при висока температура. Използва се за отлагане на диелектрични тънки слоеве и поликристален силиций.

Приложение на диелектричните слоеве:

  • Изолация между елементите
  • Биполярни интегрални схеми
  • Изолация между нивата на метализация
  • Маска за локална дифузия (йонна имплантация)
  • Пасивация (на полупроводниковата подложка) с цел защита на повърхността на приборите от замърсявания, влага и механични увреждания
  • Изпълнява ролята на гейтов диелектрик в MOS приборите
  • Si3N4 е бариера за алкалните примеси

Изисквания към отложените слоеве:

  • Дебелината на слоя да е еднаква по цялата повърхност на пластината както и върху всички подложки от дадена партида
  • Структурата и състава на слоевете да са контролируеми и възпроизводими
  • Методът на нанасяне да е безопасен и да обезпечава възможност за автоматизация

Най-голямо приложение намират слоевете от силициев нитрид Si3N4 и силициев диоксид SiO2.

Допълнителни материали

  • Jaeger, Richard C. Film Deposition // Introduction to Microelectronic Fabrication. 2nd. Upper Saddle River, Prentice Hall, 2002. ISBN 0-201-44494-1.
  • Smith, Donald. Thin-Film Deposition: Principles and Practice. MacGraw-Hill, 1995. ISBN 0-07-058502-4.
  • Dobkin and Zuraw. Principles of Chemical Vapor Deposition. Kluwer, 2003. ISBN 1-4020-1248-9.
  • K. Okada "Plasma-enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline diamond" Sci. Technol. Adv. Mater. 8 (2007) 624 free-download review
  • T. Liu, D. Raabe and S. Zaefferer "A 3D tomographic EBSD analysis of a CVD diamond thin film" Sci. Technol. Adv. Mater. 9 (2008) 035013 free-download
  • Christoph Wild "CVD Diamond Properties and Useful Formula" CVD Diamond Booklet (2008) PDF free-download
  • Dennis W. Hess, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF DIELECTRIC AND METAL FILMSfree-download from Electronic Materials and Processing: Proceedings of the First Electronic Materials and Processing Congress held in conjunction with the 1988 World Materials Congress Chicago, Illinois, USA, 24–30 September 1988, Edited by Prabjit Singh (Sponsored by the Electronic Materials and Processing Division of ASM INTERNATIONAL)